等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子清洗機的結(jié)構(gòu)主要分為三個大的部分組成,分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述:
一、控制單元:
目前國內(nèi)使用的等離子清洗機,包括國外進(jìn)口的,控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
控制單元又分為啷個大的部分:
1)電源部分:主要電源頻率有三種,分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要電源匹配器的,而2.45GHz又稱為微波等離子,主要的功能作用,前面已經(jīng)提到了,這里就不一一介紹了。
2)系統(tǒng)控制單元:分三種,按鈕控制(半自動、全自動)、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。
二、真空泵:
真空泵分為兩種:1)干泵 、2)油泵
三、真空腔體:
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的:1)不銹鋼真空腔體,2)石英腔體。