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今天小編給大家講講大氣低溫等離子清洗機的幾種頻率區別與運用:常用的等離子體激起頻率有三種:激起頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不平等離子體發生的自偏壓不一樣,超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很低,只要幾十伏,而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發作的反響為物理反響,射頻等離子體發作的反響既有物理反響又有化學反響,微波等離...
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為了提升種子質量,保障生產安全,種子檢驗工作受到了重視。而隨著工作量的增多,種子組織研磨的效率和效果也必須要提高,在此背景下,使用高通量組織研磨儀來替代人工研磨成為了很多種子檢驗室shou選,那么下面我們就來看一看高通量組織研磨破碎儀是如何提升種子組織研磨的效率和效果的呢?在有關種子核糖核酸(RNA)、蛋白質、脫氧核糖核酸(DNA)的研磨分離提取中,種子研磨是可少的工作,而面對數量眾多的種子研磨工作,如何又快又好的完成研磨,讓不少檢驗人員煩了愁,不過當還在為種子組織研磨而發愁...
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等離子清洗機的真空度,是影響等離子表面處理效果重要的因素之一。國內品牌的清洗機常用的真空度壓力單位基本是帕(Pa),但是不同國外品牌的清洗機就會出現托(Torr)、巴(bar)等單位,相互之間如何換算,有的時候不太容易搞得清楚。今天我們就來梳理一下常見的幾個真空壓力單位,供大家參考。1等離子清洗機的真空、真空度和壓力單位:清洗機是指真空反應腔室里面低于標準大氣壓的氣體狀態,微觀上來講就是腔體內的氣體分子密度小于大氣壓的分子密度,不同的真空狀態意味著不同的分子密度。真空度反應的...
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等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、涂覆等目的。今天小編給大家講講等離子清洗機為什么需...
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導讀:生物安全柜(Biologicalsafetycabinet,BSC)是為操作原代培養物、菌毒株以及診斷性標本等具有感染性的實驗材料時,用來保護操作者本人、實驗室環境以及實驗材料,使其避免暴露于上述操作過程中可能產生的感染性氣溶膠和濺出物而設計的。特別是防控以來各醫療機構建設了大量的核酸實驗室,都會用到生物安全柜,那么關于生物安全柜如何安全使用,您又了解多少?根據生物安全柜的氣流和隔離屏障設計可分為3個等級:Ⅰ級、Ⅱ級(A1、A2、B1、B2型)和Ⅲ級。應根據實驗樣品的生...
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隨著半導體工業的迅速發展,對晶圓片加工的要求也迅速提高。硅片需去除光刻膠,且需提升硅片材料表面的粘合劑、去除有機污染物等要求,由于其種種原因,目前硅片需去除光刻膠,一般都是采用等離子清洗方式,以解決光刻膠問題。為了了解去除光刻膠的原理,首先要弄清楚光刻膠上含有哪些雜質和污染物,然后對這些雜質和污染物進行分類。在半導體制造過程中,需要一些有機物污染物和氧化物的存在,而且由于工藝過程總是在凈化室中有人工操作,因此半導體圓片不可避免地受到各種雜質的污染。根據來源、性質等,可大致分為...
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PTFE通過等離子清洗機處理,不光能提高材料表面粘接能力,還可以實現:1、等離子清洗機低溫等離子體蝕刻:在低溫等離子體蝕刻的整個過程中,被蝕刻的物體會變成氣相。使用機械泵將多余的生成物的排出,并用新鮮氣體持續覆蓋表面,蝕刻部分不會被材料覆蓋(例如,半導體材料工業生產使用鉻作為覆蓋材料)。等離子體的方法也可以用來蝕刻塑料表面,并且化合物可以被灰化。作為塑料包裝在印刷粘合中的預備處理方法,如POM、PPS、PTFE等,蝕刻方式是非常必要的,低溫等離子清洗機可以顯著增加濕潤面積提高...
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等離子清洗機分為大氣式和真空式,大氣常壓電漿式清洗機又稱大氣等離子清洗機、真空電漿式清洗機。比如在打印、粘合前處理等,咱們可以運用大氣等離子清洗機,因為大氣等離子清洗機能夠在線鏟除。等離子清洗機是運用低溫等離子體發生非平衡電子、反響離子和自由基的能力。高能量基團在等離子體中炮擊外表,引起濺射、熱蒸騰或光降解。清洗機是運用等離子體中各種高能量物質的活化,對物體外表吸附的污垢進行*的剝離。大氣清洗機首要由等離子發生器、輸氣管、等離子噴嘴等組成。由等離子體發生器發生的高壓高頻能量在...
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