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2021-315
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。從通常的能量排布：氣體液體固體的角度來說，等離子的能量比氣體更高，能表現出一般氣體所不具有的特性，所以也被稱為物質的第四態。當氣體電離生成電子正離子一般在段時間內發生結合，回到中性分子狀態，這個過程產生的電子、離子的一部分能量以電磁波等不同形式消耗，在分子離解時常生成自由基，生成的電子結合中性原子，分子形成負離子。因此，整個等離子體是電子正負離子激發態原子，原子以及自由基的混合狀態。因為各種化學反應都是在高...
查看更多2021-38
壓縮氣體是現代工業*的組成部分，工業中常見的壓縮氣體主要包括壓縮空氣(CDA)和瓶裝壓縮氣體。壓縮空氣被稱為第二動力源，僅次于電力，而且還是一種具有多用途的工藝氣源。工業用的瓶裝壓縮氣體通常盛裝于管制氣瓶內，盛裝的氣體壓力通常在13-15MPa，其優點是節約空間、安全且便于運輸。壓縮氣體在使用時都會根據實際使用需求進行減壓及穩壓，那么等離子清洗機的氣體調壓方式有哪些，又有哪些使用技巧呢?氣體壓力控制是保證等離子清洗機正常運行的重要參數之一，常見的氣體減壓有氣瓶減壓器、氣動調壓...
查看更多2021-126
壓縮氣體是現代工業*的一部分，壓縮氣體通常包含在受控氣瓶中，并且氣壓通常為13-15MPa。它的優點是節省空間，安全和易于運輸。使用壓縮氣體時，將根據實際使用要求對其進行減壓和穩定。那么等離子清洗機的氣壓調節方法有哪些，使用技巧是什么？氣壓控制是確保等離子清洗機正常運行的重要參數之一。常見的氣體減壓包括氣瓶減壓器，氣壓調節器和管道節流閥。鋼瓶減壓器是一種將鋼瓶中的高壓氣體減壓成低壓氣體的裝置。等離子清洗機使用的大多數工藝氣體是瓶裝高壓氣體。為了確保每個氣體回路元件的工藝穩定性...
查看更多2021-118
電極是等離子清洗機反應室放電的關鍵部件之一，在設備維護過程中經常被我們忽略。清潔機繼續工作一段時間后，可能會出現以下現象：反應室中的放電不穩定甚至起弧；加工產品不如以前的效果；等離子發生器不匹配；電極的溫度非常高等。其原因可能是電極維護不當造成的影響，因此我們切勿輕視電極維護。1、等離子清洗機的設備維護中將有電極維護要求。為了使工作更加詳細，可以分別制定等離子清潔器的電極維護計劃，包括每日，每周，每月和年度計劃。2、每天工作前后，請用*擦拭電極，不要留下死角，以確保電極表面清...
查看更多2021-113
等離子清洗機是對電子零件和纖維材料進行金屬表面處理的新技術機器設備。但是，新技術機械設備的自動控制系統對可靠性和可信度有更高的要求，那么新技術行業中控制器會有哪些特殊要求？當等離子清洗機對電子部件和纖維材料進行金屬表面處理時，為了確保所有子系統的正常運行，必須有一個自動控制系統，以有序地向每個子系統發送工作單。市場上的控制器種類繁多，質量和價格各不相同，可靠性和使用壽命也各不相同，在選購時必須考慮控制器的可靠性和使用壽命。某些等離子清洗機制造商使用不合格的控制器，這種不合格的...
查看更多2020-1223
等離子清洗機是一種新的高科技技術，它通過向氣體施加足夠的能量將其離子化為等離子體狀態。依靠等離子體中活性離子的“激活”來達到去除物體表面污漬的目的。清潔機連接到真空泵，清潔室中的血漿在工作期間會輕輕地清洗要清潔物體的表面。短期清洗可以*清洗有機污染物，并通過真空泵將污染物去除，清洗程度可以達到分子水平。有效避免液體清潔介質對清潔對象造成的二次污染。使用它時，我們必須具備一定的“風險管控”意識。1、等離子清洗機的風險識別如下：（1）清潔介質的泄漏風險清潔介質通常為氣體，并且經常...
查看更多2020-1217
等離子清洗機可用于橡膠，塑料工業，汽車電子工業，國防工業，醫療工業，航空工業等行業。等離子表面清洗可以去除表面上的脫模劑和添加劑，其活化過程可以確保后續粘接工藝和涂覆工藝的質量。換句話說，涂層處理可以進一步改善復合材料的表面性能。1、環保技術：等離子表面處理過程是氣固相干反應，不消耗水資源，不需要添加化學藥品。2、高效率：整個過程可以在短時間內完成。3、成本低：設備簡單，易于操作和維護，使用少量氣體代替昂貴的清洗液，無廢液成本。4、它可以穿透凹槽并更精細地完成任務。5、應用范...
查看更多2020-1127
等離子清洗機的效果與特點：(1)清洗后的材料表面基本沒有殘留物，并且可以通過選擇、搭配不同的等離子體清洗類型，產生不同的清洗效果，滿足后續處理工藝對材料表面特性的多種需求;(2)由于等離子體的方向性不強，因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復雜結構的物件，適用性較強;(3)可處理多種基材，對待清洗物件的要求較低，因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;(4)清洗過后無需干燥或其他工序，無廢液產生，同時其工作氣體排放無毒害，安全環保;(5)操作簡便、易控、快捷，對真空度要求不高或...
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